SK海力士正积极扩大其DRAM制造中铪基高k前驱体的供应商范围

　　为打破供应链单一依赖，SK海力士正积极扩大其DRAM制造中铪（Hf）基高k（High-k ，高介电常数）前驱体的供应商范围。这种前驱体长期以来一直受日本Tri Chemical Laboratories Inc. (TCLC)公司持有的专利保护
，但这些专利将于今年晚些时候到期 。

（文章来源：财联社）